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瀚微科技
Jiangsu Hanwei Science and Technology Co., Ltd
  • 等离子去胶
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商品描述

使用氧等离子体对光刻后残胶进行去除,也可对其他无污染有机物进行刻蚀或表面处理;

工作频率:2.45GHz

最大功率:500W

最长工艺时间:9999