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Jiangsu Hanwei Science and Technology Co., Ltd
项目详情
深硅刻蚀(DSi)
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商品信息
商品描述
深
Si
刻蚀:常规硅刻蚀速率约为
10μm/min
;硅
/
光刻胶刻蚀选择比:
>50:1
,侧壁与底面夹角:
90°±1°
。
尺寸:
4
英寸及以下
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金属干法刻蚀
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深硅刻蚀(Oxfor......