什么是聚焦离子束系统？

聚焦离子束系统是聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)与X射线能谱仪(EDS)联用的综合表征系统，FIB 可实现纳米级定点切割、剖样与微加工，SEM 用于高分辨形貌观察，EDS 则能同步对微区进行元素定性、定量及面分布分析，三者集成可在同一位置完成 “纳米加工、形貌成像、成分表征” 一体化分析，广泛应用于半导体失效分析、材料界面与缺陷表征、TEM 样品制备等领域。

聚焦离子束系统的应用

1、 剖面分析

FIB的剖面分析是利用聚焦离子束（FIB）对样品进行定点、无损、纳米级精准切割，获得平整的内部截面，再通过 SEM 对截面多层结构、界面形貌、缺陷与界面结合状态进行高分辨成像，并结合 EDS 对各功能层进行元素定性、定量及分布表征，从而直观揭示材料内部层状结构、界面反应、缺陷产生及元素扩散规律，是微纳器件结构与失效机理分析的关键手段。

2、 FIB-TEM样品制备

FIB-TEM 制样主要是为了精准选取特定微区，在扫描电镜实时观察下，利用聚焦离子束将目标位置切割、减薄至几十纳米的超薄试样，满足透射电镜对样品极薄的要求，同时避免传统制样难以定位、易引入损伤和变形的问题，能高质量获得界面、缺陷、器件结构等纳米尺度信息，是半导体、先进材料高分辨 TEM 表征的关键制备手段。