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瀚微科技
Jiangsu Hanwei Science and Technology Co., Ltd
仪器设备详情
委托光刻(MA6/EVG)
发布时间: 2026-08-21 16:59
商品信息
具备匀胶、曝光、显影、烘烤、去胶等全套光刻工艺手段;
可以双面曝光;可光刻各种规则和不规则的基片,最大基片尺寸
6"
。
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