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等离子去胶
    发布时间: 2026-08-21 17:22    
等离子去胶

使用氧等离子体对光刻后残胶进行去除，也可对其他无污染有机物进行刻蚀或表面处理；

工作频率：2.45GHz；

最大功率：500W；

最长工艺时间：9999秒


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