近日，我司提出《测定 X 射线光电子能谱表面分析系统溅射薄膜速率的方法》， 正式获得国家知识产权局发明专利受理（申请号：2024119484221）。

本发明涉及一种测定X射线光电子能谱（XPS）表面分析系统中溅射薄膜速率的方法，该方法通过结合椭圆偏振光谱仪、聚焦离子束系统（FIB）和XPS三种分析手段，实现对薄膜溅射速率的精确测定。

提出了首先利用椭圆偏振光谱仪无损测量薄膜厚度并建立拟合模型；随后通过聚焦离子束系统进行横截面切割与观测，验证膜层厚度；再采用XPS进行深度溅射实验，记录从膜层开始溅射至完全穿透的时间；最后基于厚度与时间数据建立溅射速率的模型。

本发明具有测量精度高、深度分辨、灵敏度高等优点，特别适用于纳米级薄膜、多层结构及多种功能薄膜材料的深度剖析，能够有效评估薄膜的厚度、分层性和界面特性。