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瀚微科技
Jiangsu Hanwei Science and Technology Co., Ltd
  • 委托光刻（MA6/EVG）

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商品描述

具备匀胶、曝光、显影、烘烤、去胶等全套光刻工艺手段；可以双面曝光；可光刻各种规则和不规则的基片，最大基片尺寸6"。