您好，欢迎您访问瀚微科技公司官网......
瀚微科技
Jiangsu Hanwei Science and Technology Co., Ltd
  • 反应离子刻蚀（RIE）

  • 反应离子刻蚀（RIE）

    • 0.00
      0.00
商品描述

可实现SiO2、SiN低速率、低损伤刻蚀，与光刻胶选择比＞3:1；

SiO2刻蚀速率30 nm/min；

SiNx刻蚀速率70-85 nm/min；

SiNx、SiO2刻蚀速率选择比＞3:1；

可进行无油刻蚀